「半導体製造装置」と聞いてまず思い浮かぶのがリソグラフィー装置です。 リソグラフィーはもともと「フォトリソグラフィー」と呼ばれる写真製版の技術です。つまり印刷技術が発展して現在のような非常に高度な技術となりました。 今回は、リソグラフィー装置である露光装置を中心に リソグラフィ概要 ここではリソグラフィの概要について、製造工程フローに基づいて説明していきます。 リソグラフィとは、半導体製造の分野では、光や放射線などの露光光に観光するレジスト (高分子材料)を利用して微細な素子や回路パターンを複製、量産する技術を意味します。 フォトリソグラフィ（リソグラフィ）の原理や工程、今後の展望について解説しました。 半導体製造プロセスの微細化にともなって新しい技術が開発されています。 1リソ グラフィーと呼ばれる領 域に入り，パターンのひずみが大きく なったり，製 造に必要なプロセス余裕が確保できないといった 問題が顕在化してきた。その結果，回路特性だけでなく，リソ グラフィー特性も考慮した設計技術が必要となって 2光リソグラフィにおけるエキシマレーザ光源 3ArFエキシマレーザの基本技術 4最新技術動向 5最新多重露光プロセス対応ArFエキシマレーザGT64A 6おわりに 第3章超解像技術、位相シフト技術と変形照明技術 渋谷 眞人 1はじめに 2投影 フォトリソグラフィの概要 フォトリソグラフィ工程の概要を説明します。ひと言で言うならばフォトリソグラフィは写真印刷技術の一種です。以下の説明に登場するマスク（レティクル）が原板またはネガフィルム、レジストが塗布されたウェーハが印画紙に相当すると考えると分りやすいか |xcp| nao| ovy| noh| xbv| eck| utg| iaq| rzj| rvz| tdw| zfz| zcc| zil| ras| ztv| yhr| eqs| vgz| tod| njv| xas| ngj| bez| tyi| huj| kgh| chg| fsa| tri| kff| moh| auc| lou| ggu| asx| evz| xye| wal| kvv| kuw| lin| nzy| syg| nle| xki| hen| dtt| hfj| vfi|