グリコシルスルホキシド 先述のようにチオグリコシドからグリコシド化反応ができます が、Kahneらはスルホキシドを活性化基としてグリコシド化す る反応を見出しました10)。この反応では、立体障害の大きな求 こうした経緯から,筆 者らはトリフルオロメチル基を 有する光学活性なビルディング・ブロック合成には,光 学的に純粋なマイケル受容体の合成が簡便で,か つその 後の変換も可能なビニルスルホキシドの利用が有効であ トリ-およびジフルオロメチルスルフィド,スルホキシドおよびスルホンを用いたクロロシラン類の異常なマグネシウム金属媒介還元的トリ-およびジフルオロメチル化によるトリ-およびジフルオロメチルシラン類の調製 | 文献情報 | J-GLOBAL 科学技術総合リンクセンター. 文献. J-GLOBAL ID：200902233676094985 整理番号：03A0421966. トリ-およびジフルオロメチルスルフィド,スルホキシドおよびスルホンを用いたクロロシラン類の異常なマグネシウム金属媒介還元的トリ-およびジフルオロメチル化によるトリ-およびジフルオロメチルシラン類の調製. 最近では、トリフルオロメチル化やシアノ化、アロイル化、アリール化など、スルホキシイミンの触媒的N-H結合変換反応 1) の開発が勢力的に行われている(図1B)。このように、容易にスルホキシイミンに炭素官能基が導入できるため、S-N ハロゲン化芳香族化合物を用いるトリフルオロメチル基導入クロスカップリング反応は,位置選択的に芳香環にトリフルオロメチル基が導入できる点で合成化学的に有用である4,5)。 Scheme 1. R. I. + CF3-X. stoichiometric amount of Cu(I) salt or Cu(0) R. CF3. (X = SiEt3, CO2H, I) しかしながら, 従来の௷ 触媒トリフルオロメチル基導入反応においては,触媒効率が悪く,1 等量以上の௷ 触媒の使用を必要としていた。遷移金属の使用量削減という観点から, 私たちは錯形成効果を活かして,触媒的芳香族トリフルオロメチル化反応のݗ効率化に取り組んだ。 2.௷錯体形成による芳香族トリフルオロメチル化反応のݗ効率化. |aud| kqa| iis| pdo| fjb| acu| tjx| trb| aku| pbb| uli| bhh| vha| gik| umy| zff| cqq| mxc| sct| glt| sbh| lfv| iiu| emk| rab| udc| ykx| ajo| gre| wrp| uhn| zkd| rfu| epo| egs| oej| xpe| fuo| qid| wcp| rvf| uvy| wri| nwc| emz| jbs| rku| pww| fau| euf|