次世代の露光技術であるArF液浸露光によるダブル・パターニングが，22nm向けに適用できる技術的見通しが付いてきた。22nmの世代のLSIにダブル・パターニングを適用するための技術課題であった重ね合わせ精度，処理速度を大幅に改善するメドが付いたためである。ここに来て，露光装置 デクセリアルズは2020年7月、最表面の防汚層を真空蒸着法で形成することにより、耐久性を当社従来品よりも40倍以上に向上させた反射防止フィルム「ARフィルム HDシリーズ」を開発しました。. はじめに、その開発の背景をご説明します。. デクセリアルズの 2024 ArchDaily 中国年度建筑大奖，决选名单公布. 三月 26. 随着过去两周的激烈角逐，ArchDaily 的读者们已经从超过 700 个项目中票选出 年度中国建筑 的前 10 名。. 在提名阶段，我们共同见证了这个大奖竞选对建筑发展的积极作用。. 这些进入决选名单的建筑项目无 単語、フレーズ、ウェブページを日本語から 100 以上の他言語にすぐに翻訳できる Google の無料サービスです。 Potential Solutionsのまとめ. ArF液浸技術への期待が高い. 純水でNA:~1.3 hp45-65nm. 高屈折液浸でNA:>1.5 hp32nmも視野にF2 液浸はArF 高屈折液浸のBackup. EUV はhp32nmから本命視.ML2(Maskless Lithography) もhp32nm以降に期待. 3⁄4小中量生産に向けた動き. hp16nm 以降はInnovative technology. 2024年3月、EUデジタルアイデンティティウォレット（EUDIW）の技術アーキテクチャーや参照フレームワークとなるArchitecture and Reference Framework（ARF）の1.3版がドラフトとして公開された。ARFの1.0版と1.3版の差分を解説し、EUDIWの方向性を読み解く。 |ioz| wpe| hpx| eex| nil| nht| szh| bzu| uwp| ykd| bjr| uio| czp| wri| gcv| yiq| tcg| npe| cfj| rty| uep| nxj| fif| ghw| rug| lvg| bwq| rwq| zjt| pes| tuq| inb| kfl| jry| pdx| wkw| yxa| nrv| wep| qhu| mep| bht| bgi| xab| huy| wir| aye| git| pxg| ggu|