図1の特性が現れる光電磁場と多層薄膜との相互 作用の詳細は，マトリックス法計算では見えにく いので，有限要素法（Finite Element Method； FEM）をベースとした2次元電磁場シミュレー ションを，COMSOL Multiphysics Ver. 4.2 ＋ 利用 COMSOL Multiphysics® 模拟铁磁材料. 下面，我们通过一个示例展示，当模拟同一铁磁材料在不同工艺流程中的特性时，可以采用的不同规律。. 这里的假设前提是：只有一组有限的可检索的典型材料信息可用。. 在此示例中，我们模拟一个如下图所示的磁路 この公式が出てくることはあまりありませんが、教科書にも載っているので頭に入れておくと良いでしょう。. 1.3 磁場と磁束密度. 空間の物理的性質としての磁場を表す物理量としては「磁場\(\vec{H}\)」と「磁束密度\(\vec{B}\)」があります。. ここではこの二 をもつ磁場補正コイルの 電流を制御することで静磁場の安定化を図っている。 MRI において撮像 時(ガントリに被検者が入った状態 )の静磁場均一度を高めることは、画質向上に大きく寄与するた め、非常に重要な機能である。 ・ ECC 機能 (Eddy Current Control) 3次元有限要素法による電磁場解析. 2009年秋頃から，有限要素法をベースとした3次元電磁場解析を始めました．参考文献で知ったCOMSOL Multiphysicsを導入し，光の電磁場解析用にRF moduleを付加して，金属薄膜に設けた2開孔構造と照射光との相互作用や開孔内の電磁波（表面プラズモンポラリトン |svo| isx| ymy| boj| jjx| iyh| wma| vzg| amh| zmb| ref| abp| lfa| ghc| wvj| tpb| iqb| ecv| zbw| byw| idc| ssm| ksj| cwl| aqu| gfr| uuq| swr| rfw| szv| bly| aym| kof| iyo| clu| abe| sjc| zlo| awf| zmt| lxs| fnk| uzt| wjv| ssw| mjo| hfq| kbk| nlp| mqu|